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大尺寸K玻璃光學元件超聲波清洗案例
合作單位：**研究院**中心
清洗工件：大尺寸K玻璃光學元件
設備名稱：十二槽超聲波清洗設備


設備整體集成了完整的清洗、漂洗、干燥及輔助系統，涵蓋超聲波清洗、噴淋清洗、超聲漂洗、慢拉、紅外熱風循環干燥、真空干燥、循環過濾系統、自動機械臂、拋動機構、上下料推車、PLC程序控制系統、FFU凈化系統、抽風裝置、預熱水箱等核心部件，實現從工件上料、清洗、漂洗到干燥、下料的全自動化流程，大幅提升清洗效率。

一、超聲波清洗配置
清洗槽（堿性清洗劑）
配備7頻復頻超聲波清洗，通過不同頻率的協同，形成更均勻的空化，確保清洗均勻性的同時保護光學元件表面潔凈度。
清洗槽（中性清洗劑）
配備高頻兆聲波清洗，可實現分子層級別的精密清洗，能夠有效去除光學元件表面附著的亞微米級顆粒雜質。
超聲波漂洗槽
設5個超聲波漂洗槽，依次配備中高頻到高頻超聲波清洗，通過梯度頻率的漂洗工藝，逐步去除光學元件表面殘留的清洗液和微小雜質，滿足科研級高潔凈度的清洗要求。

二、多尺寸兼容設計
針對多尺寸清洗需求，進行了適配設計，可輕松清洗800*440*85mm的大尺寸K玻璃光學元件，同時兼容其他中小型光學元件，靈活性強，滿足不同玻璃元件的清洗需求

三、輔助系統和功能
除核心清洗工藝外，設備配套各類輔助功能進一步保障清洗效果和操作便捷性，包括FFU進化系統、循環過濾系統、PLC控制系統、自動化機械臂與拋動機構等。另外，采用紅外熱風干燥和真空干燥組合，可快速去除光學元件表面水分，避免水印殘留，確保清洗后表面干燥潔凈。


合作成效
該套大尺寸K玻璃光學元件超聲波清洗設備投入使用后，完美解決了清洗痛點，取得了顯著效果，具體如下：

通過多頻率協同清洗工藝，徹底去除了K玻璃光學元件表面的拋光粉、油污、微小顆粒等雜質，實現表面無大于0.5μm顆粒、無有機污染且接觸角≤5°，清洗后元件表面潔凈度達到科研級標準，無劃痕、無蝕坑、無水印殘留，有效保障了元件的光學性能。


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